Cathodic Arc(음극 아크)란 무엇입니까?
Cathodic Arc 음극 아크 - The research of formation of beam-produced plasma by a pulsed low-energy (up to 7 keV) large-radius electron beam, generated by a forevacuum plasma-cathode electron source based on a cathodic arc, is presented. [1] Initial breakdown was followed by a secondary breakdown occurring about 30-70 ns later and was associated with ignition of a cathode spot and transition to cathodic arc. [2] The cathode plasma is formed by a cathodic arc and the anode plasma by toroidal plasma generators based on an anode-layer closed drift thruster. [3] In the surface modification processes obtained by high voltage electric discharges and cathodic arc at low pressures its of great interest to estimate the concentration of ions that are implanted on the surfaces of metallic substrates. [4] The CrAlSiN and MoS2 layers were deposited by cathodic ARC and magnetron sputtering technology respectively. [5]음극 아크를 기반으로 하는 전진공 플라즈마-음극 전자 소스에 의해 생성된 펄스형 저에너지(최대 7keV) 큰 반경의 전자빔에 의한 빔 생성 플라즈마 형성에 대한 연구가 제시됩니다. [1] 초기 고장은 약 30-70ns 후에 발생하는 2차 고장으로 이어지며 음극 지점의 점화 및 음극 아크로의 전환과 관련이 있습니다. [2] 캐소드 플라즈마는 캐소드 아크에 의해 형성되고 애노드 플라즈마는 애노드 층 폐쇄 드리프트 추진기를 기반으로 하는 토로이달 플라즈마 생성기에 의해 형성됩니다. [3] 고전압 방전과 저압에서의 음극 아크에 의해 얻어지는 표면 개질 공정에서 금속 기판의 표면에 주입되는 이온의 농도를 추정하는 것은 매우 중요합니다. [4] CrAlSiN 및 MoS2 층은 각각 음극 ARC 및 마그네트론 스퍼터링 기술에 의해 증착되었습니다. [5]
physical vapor deposition 물리적 증착
Then, the non-nitrided and nitrided substrates were coated with titanium carbonitride (TiCN)-graded thin films produced by cathodic arc plasma-assisted physical vapor deposition. [1] Initially, CrAlSiN nanocomposite coating and carbon incorporated CrAlSiN coating were deposited separately using the cylindrical cathodic arc physical vapor deposition (PVD) technique. [2] The nanolayers were deposited from chromium and zirconium targets using the cathodic arc evaporation physical vapor deposition (Arc-PVD) technique in a nitrogen atmosphere. [3] In this study, ceramic coatings constituted of singlelayer and multi-layer TiN/TiAlN coatings with a titanium bond coat layer to improve adhesion were applied onto ZIRLO sheets using cathodic arc physical vapor deposition. [4] 4N coatings deposited by different physical vapor deposition (PVD) methods, such as cathodic arc deposition (CAD), as well as advanced HiPIMS techniques were investigated in terms of their cutting performance during the machining of an Inconel 718 alloy. [5] Deposition of the TiCN and TiAlN coatings was carried out on the hardened steel substrates (55-57 HRc) at 450–500°C by cathodic arc physical vapor deposition (CA-PVD) method. [6] The films were synthesized by two different physical vapor deposition methods, cathodic arc deposition and direct current magnetron sputtering, onto silicon and polyimide substrates. [7] In this study, ZrN coating on Nickel-Titanium shape memory alloys was obtained by vacuum cathodic arc physical vapor deposition technique to improve electrochemical corrosion resistance. [8] Pack cementation and cathodic arc physical vapor deposition (Arc-PVD) techniques were employed to apply adiffused layer and ahard coating, respectively. [9] Nanoscale multilayer TiSiN/NbN coatings with a modulation period ranging from 75 to 50 nm were deposited onto steel using the cathodic arc physical vapor deposition technique. [10] Micropatterning of the substrate (Ti-5Al-4V alloy) was done by using electron beam modification (EBM) by scanning electron beam while nanostructured TiN/TiO2 films were deposited over EBM Ti5Al4V substrates using two physical vapor deposition techniques: 1) magnetron sputtering, and 2) cathodic arc and glow-discharge methods. [11] Coatings are applied at room temperature processes by means of Cathodic Arc Evaporation (CAE), a kind of Physical Vapor Deposition (PVD) technique. [12] Thin films were applied by physical vapor deposition using cathodic arc evaporation technique onto pre-nitrided pin-shape samples at 350 °C. [13] Second, an experimental investigation was performed through the deposition of select coating design architecture using cathodic arc physical vapor deposition process onto ZIRLO® 1 sheets followed by mechanical testing to examine the adhesion and hardness of the coatings. [14] Similarly, physical vapor deposition (PVD) technologies such as cathodic arc evaporation (CAE) and magnetron sputtering (MS) are commonly used today for the growth of protective hard coatings on different Titanium components in the biomedical field. [15] The presented methods comprise cathodic arc deposition for DLC targets, chemical vapor deposition for CNFs, a droplet and spin-coating process for plastic foil production, as well as physical vapor deposition that has been optimized to provide ultrathin gold foils and tailored sacrifice layers. [16] Four nitride coatings—TiN, TiAlN, TiCrN, and AlCrN—were deposited onto plasma-nitrided AISI H21 hot work die steel using the cathodic arc evaporation physical vapor deposition technique. [17] Multilayered ZrN/CrN coatings were produced by the cathodic arc physical vapor deposition (CA-PVD). [18] Nitride-based coatings are applied by cathodic arc physical vapor deposition (CAPVD) to improve the tribological properties of cutting tools. [19]그런 다음, 비질화 및 질화 기판을 음극 아크 플라즈마 보조 물리 기상 증착에 의해 생성된 탄질화 티타늄(TiCN) 등급 박막으로 코팅했습니다. [1] 초기에 CrAlSiN 나노복합체 코팅과 탄소가 통합된 CrAlSiN 코팅은 원통형 음극 아크 물리적 기상 증착(PVD) 기술을 사용하여 별도로 증착되었습니다. [2] nan [3] nan [4] nan [5] nan [6] nan [7] nan [8] nan [9] nan [10] 기판(Ti-5Al-4V 합금)의 미세 패턴화는 전자빔을 주사하여 전자빔 수정(EBM)을 사용하여 수행되었으며 나노구조의 TiN/TiO2 필름은 두 가지 물리적 기상 증착 기술을 사용하여 EBM Ti5Al4V 기판 위에 증착되었습니다. 1) 마그네트론 스퍼터링, 및 2) 음극 아크 및 글로우 방전 방법. [11] 코팅은 PVD(Physical Vapor Deposition) 기술의 일종인 CAE(Cathodic Arc Evaporation)를 통해 실온 공정에서 적용됩니다. [12] nan [13] nan [14] nan [15] nan [16] nan [17] nan [18] nan [19]
stainless steel substrate 스테인리스 기질
3% Ti were deposited via pulsed cathodic arc deposition and magnetron sputtering on AISI 316L stainless steel substrates. [1] In the present work, amorphous carbon films were deposited by unfiltered cathodic arc over a gas nitrided stainless steel substrate with metallic chromium as bond layer. [2] Nanolayered CrTiN and CrAlTiN and multilayered CrAlTiN-CrN and CrAlTiN-AlTiN coatings were deposited on 17-4PH stainless steel substrate by cathodic arc evaporation technique. [3] In this study, we have deposited TiO2 thin films on stainless steel substrate at low temperature (90 ℃) by middle frequency (MF) magnetron sputtering and cathodic arc PVD techniques at two different substrate surface roughness. [4] A novel spectrally selective Cr/AlCrN/AlCrNO/AlCrN/AlCrNO/AlCrO multilayer coating was deposited on stainless steel substrates using cathodic arc ion plating. [5] Non-evaporable getter (NEG) thin films of Ti-Al-Zr and Ti-Zr were prepared on stainless-steel substrate by using the cathodic arc deposition technique. [6] The Cr thin films with different thicknesses were deposited on silicon wafers, optical quartz and stainless steel substrates by cathodic arc ion plating technology as a metallic IR reflector layer in SSAC. [7] Titanium Nitride (TiN) coatings were deposited on stainless steel substrate using Cathodic Arc Deposition method. [8] The present paper focuses on the investigation of self-cleaning properties based on studding of water repellency and blood repellency for TiN- and CrN single-layer and TiN/CrN nanoscale multi-layer coatings deposited via Cathodic Arc Evaporation (CAE) method on medical grade 420C stainless steel substrate. [9]3% Ti는 AISI 316L 스테인리스 스틸 기판에 펄스 음극 아크 증착 및 마그네트론 스퍼터링을 통해 증착되었습니다. [1] 현재 작업에서 비정질 탄소 필름은 금속 크롬을 결합층으로 사용하여 가스 질화 스테인리스강 기판 위에 여과되지 않은 음극 아크에 의해 증착되었습니다. [2] 나노층 CrTiN 및 CrAlTiN 및 다층 CrAlTiN-CrN 및 CrAlTiN-AlTiN 코팅이 음극 아크 증발 기술에 의해 17-4PH 스테인리스강 기판에 증착되었습니다. [3] 이 연구에서 우리는 두 가지 다른 기판 표면 거칠기에서 중간 주파수(MF) 마그네트론 스퍼터링 및 음극 아크 PVD 기술에 의해 저온(90℃)에서 스테인리스 스틸 기판에 TiO2 박막을 증착했습니다. [4] nan [5] nan [6] nan [7] nan [8] nan [9]
physical vapour deposition 물리적 증착
In this study, a nanolayered multi-layer CrN/(Cr,Al)N coating was deposited on the tip of the electrode by applying the cathodic arc physical vapour deposition process with the layer thickness of about 30 nm and an overall thickness of 1. [1] The coatings were deposited by an industrial cathodic arc physical vapour deposition process. [2] The substrate used was tungsten carbide (WC-6Co), which was prepared in-house through a powder metallurgy process, while the TiCxN1−x coatings were deposited in-house using cathodic arc physical vapour deposition (CAPVD). [3] In this context, the primary objective of this article is to comprehensively review the corrosion behaviour of protective coatings deposited through different surface engineering technologies namely (a) Thermal spray techniques such as plasma spray, high velocity oxy-fuel spray, detonation spray and cold spray; (b) Electrolytic processes including anodizing, hard anodizing, hard chrome plating, electroplating, pulse electrodeposition and micro arc oxidation; (c) Physical vapour deposition techniques namely magnetron sputtering and cathodic arc; (d) sol-gel coatings; and (e) laser materials processing on a variety of non-ferrous materials. [4] TiCN/TiAlN and TiAlN/TiCN bilayer combinations were deposited on cemented carbide cutting insert substrates by means of the cathodic arc physical vapour deposition (CAPVD) process. [5] In this study, several multilayers nitride coatings were deposited on 17-4 PH stainless steel by employing a cathodic arc physical vapour deposition process to improve the resistance of this stainless steel in corrosive solution environment. [6] In this research, the adhesion of multilayered nitride coatings produced by cathodic arc physical vapour deposition to hot work tool steel (AISI H13) substrate was evaluated. [7]본 연구에서, 나노층 다층 CrN/(Cr,Al)N 코팅은 층 두께가 약 30 nm이고 전체 두께가 1인 음극 아크 물리 기상 증착 공정을 적용하여 전극의 팁에 증착되었습니다. [1] 코팅은 산업용 음극 아크 물리적 기상 증착 공정에 의해 증착되었습니다. [2] 사용된 기판은 분말 야금 공정을 통해 사내에서 준비된 텅스텐 카바이드(WC-6Co)였으며, TiCxN1-x 코팅은 음극 아크 물리 기상 증착(CAPVD)을 사용하여 사내에서 증착되었습니다. [3] 이러한 맥락에서 이 기사의 주요 목적은 다양한 표면 엔지니어링 기술, 즉 (a) 플라즈마 스프레이, 고속 산소 연료 스프레이, 폭발 스프레이 및 콜드 스프레이와 같은 열 스프레이 기술을 통해 증착된 보호 코팅의 부식 거동을 종합적으로 검토하는 것입니다. ; (b) 양극산화, 경질 양극산화, 경질 크롬 도금, 전기도금, 펄스 전착 및 마이크로 아크 산화를 포함한 전해 공정; (c) 물리적 기상 증착 기술, 즉 마그네트론 스퍼터링 및 음극 아크; (d) 졸-겔 코팅; (e) 다양한 비철 재료에 대한 레이저 재료 가공. [4] nan [5] nan [6] nan [7]
pulsed magnetron sputtering
The single-layer nitride coatings (TiN; ZrN; (Ti,Zr)N; (Ti,Al)N; (Ti,Zr,Al)N) were deposited by DC magnetron sputtering (MS), cathodic arc evaporation (CAE), pulsed magnetron sputtering (PMS), and combined methods (CAE + MS and CAE + PMS). [1] Thin films of titanium oxides, titanium oxynitrides and titanium nitrides were deposited on glass substrates by the methods of direct current (DC) and pulsed magnetron sputtering and cathodic arc evaporation. [2] In this paper, single-layer coatings based on two-component TiN and ZrN, three-component (Ti,Zr)N and (Ti,Al)N and four-component (Ti,Zr,Al)N nitrides were obtained by pulsed magnetron sputtering, DC magnetron sputtering, cathodic arc evaporation, and com-bined method at various process parameters. [3]단층 질화물 코팅(TiN; ZrN; (Ti,Zr)N; (Ti,Al)N; (Ti,Zr,Al)N)은 DC 마그네트론 스퍼터링(MS), 음극 아크 증발(CAE)에 의해 증착되었습니다. , 펄스 마그네트론 스퍼터링(PMS) 및 결합 방법(CAE + MS 및 CAE + PMS). [1] 티타늄 산화물, 티타늄 산질화물 및 티타늄 질화물의 박막은 직류(DC) 및 펄스 마그네트론 스퍼터링 및 음극 아크 증발 방법에 의해 유리 기판에 증착되었습니다. [2] nan [3]
physical vapor deposited 물리적 기상 증착
The influence of post thermal treatment at (500,600,700, and 800 °C) of cathodic arc physical vapor deposited TiN coated Ti6Al4V (Ti64) alloy was studied for orthopedic uses. [1] In this study, the wear and friction behavior of cathodic arc physical vapor deposited AlTiSiN+TiSiN coatings on H13 tool steels were investigated by using CrN, TiN and AlCrN interlayers with tribometer tests both under unlubricated and boundary lubricated conditions. [2](500,600,700 및 800°C) 음극 아크 물리 기상 증착 TiN 코팅 Ti6Al4V(Ti64) 합금의 후 열처리 영향이 정형외과용으로 연구되었습니다. [1] 이 연구에서 H13 공구강에 대한 음극 아크 물리 기상 증착 AlTiSiN+TiSiN 코팅의 마모 및 마찰 거동은 윤활되지 않은 조건과 경계 윤활 조건 모두에서 마찰계 테스트와 함께 CrN, TiN 및 AlCrN 중간층을 사용하여 조사되었습니다. [2]
impulse magnetron sputtering 임펄스 마그네트론 스퍼터링
In the present work, Cr coatings were deposited onto chemically vapor deposited (CVD) SiC with either high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS), cathodic arc (CA), or a combination of both. [1] Chromium deposited by high-power impulse magnetron sputtering (HIPIMS) versus cathodic arc (CA) processes exhibits very different mechanical properties. [2]현재 연구에서 Cr 코팅은 고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링(HiPIMS), 음극 아크(CA) 또는 이 둘의 조합을 사용하여 화학적 기상 증착(CVD) SiC에 증착되었습니다. [1] 고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링(HIPIMS) 대 음극 아크(CA) 공정에 의해 증착된 크롬은 매우 다른 기계적 특성을 나타냅니다. [2]
Vacuum Cathodic Arc 진공 음극 아크
Electrochromic WO3 films deposited on ITO-based and IZTO-based ECDs using vacuum cathodic arc plasma (CAP) were investigated. [1] Vacuum cathodic arc TiN coatings with overlaying TiO2 film were deposited on polished and surface roughened by electron beam modification (EBM) Ti6Al4V alloy. [2] In this study, a type of counter electrode iridium oxide (IrO2) layer was fabricated using vacuum cathodic arc plasma (CAP). [3] In this study, ZrN coating on Nickel-Titanium shape memory alloys was obtained by vacuum cathodic arc physical vapor deposition technique to improve electrochemical corrosion resistance. [4] Cr2O3 coatings were prepared by vacuum cathodic arc deposition (VCAD) on cemented carbide YT15 at different voltages of both direct current (DC) and radio frequency (RF) bias. [5]진공 음극 아크 플라즈마(CAP)를 사용하여 ITO 기반 및 IZTO 기반 ECD에 증착된 전기변색 WO3 필름을 조사했습니다. [1] TiO2 필름을 덮는 진공 음극 아크 TiN 코팅이 전자빔 수정(EBM) Ti6Al4V 합금에 의해 연마되고 거칠어진 표면에 증착되었습니다. [2] nan [3] nan [4] nan [5]
Pulsed Cathodic Arc 펄스 음극 아크
3% Ti were deposited via pulsed cathodic arc deposition and magnetron sputtering on AISI 316L stainless steel substrates. [1] In this study, several nanometer-thick transition metal overlayers (M) were formed on an Fe–Cr–Al metal (SUS) foil by pulsed cathodic arc-plasma deposition. [2] Coatings were deposited by pulsed cathodic arc evaporation (PCAE) of a TiC–NiCr–Eu2O3 cathode fabricated by the powder metallurgy method. [3] Thrust and current-voltage characteristics of pulsed cathodic arcs operating in vacuum and ambient air are presented and analyzed. [4]3% Ti는 AISI 316L 스테인리스 스틸 기판에 펄스 음극 아크 증착 및 마그네트론 스퍼터링을 통해 증착되었습니다. [1] 이 연구에서 펄스 음극 아크 플라즈마 증착에 의해 Fe-Cr-Al 금속(SUS) 포일 위에 여러 나노미터 두께의 전이 금속 오버레이어(M)가 형성되었습니다. [2] 코팅은 분말 야금법으로 제작된 TiC-NiCr-Eu2O3 음극의 펄스 음극 아크 증발(PCAE)에 의해 증착되었습니다. [3] 진공 및 주변 공기에서 작동하는 펄스 음극 아크의 추력 및 전류-전압 특성을 제시하고 분석합니다. [4]
Filtered Cathodic Arc
% Ag were grown on CoCrMo substrates by pulsed filtered cathodic arc co-deposition using pure graphite and silver targets. [1] In this work, the fabrication of F-DLC films using filtered cathodic arc deposition while introducing a fluorocarbon gas was carried out, and the characteristics of the F-DLC films were investigated. [2] A novel combined in-situ system, integrating Raman spectroscopy and depth-sensing techniques, was applied to analyze the wear induced transformation on the microstructure of diamond-like carbon (DLC) film deposited on Si substrates using a filtered cathodic arc vacuum (FCVA) deposition system. [3]% Ag는 순수한 흑연 및 은 타겟을 사용하여 펄스 필터링된 음극 아크 동시 증착에 의해 CoCrMo 기판에서 성장되었습니다. [1] 본 연구에서는 플루오르카본 가스를 주입하면서 여과된 음극 아크 증착을 이용한 F-DLC 필름의 제작을 수행하였고, F-DLC 필름의 특성을 조사하였다. [2] 라만 분광법과 깊이 감지 기술을 통합한 새로운 결합된 현장 시스템은 필터링된 음극 아크 진공(FCVA)을 사용하여 Si 기판에 증착된 다이아몬드형 탄소(DLC) 필름의 미세 구조에 대한 마모 유도 변형을 분석하기 위해 적용되었습니다. 증착 시스템. [3]
Reactive Cathodic Arc 반응성 음극 아크
Zr-based nitrides and oxynitrides were deposited by reactive cathodic arc evaporation in monolayer and double-layer structures with the aim of increasing the corrosion protection of 304L stainless steel (SS) in a biomedical aggressive environment. [1] The cathode spot behavior influences the arc plasma chemistry and film growth conditions during reactive cathodic arc deposition of nitride and oxide films. [2] 75 coatings were prepared in different N2/Ar discharges on WC-Co inserts by reactive cathodic arc deposition. [3]Zr 기반 질화물 및 산질화물은 생의학적 공격적인 환경에서 304L 스테인리스강(SS)의 부식 방지를 향상시키기 위해 단층 및 이중층 구조에서 반응성 음극 아크 증발에 의해 증착되었습니다. [1] 음극 스폿 거동은 질화물 및 산화막의 반응성 음극 아크 증착 동안 아크 플라즈마 화학 및 막 성장 조건에 영향을 줍니다. [2] nan [3]
Multisource Cathodic Arc 다중 소스 음극 아크
In the present study, AlTiN/CrTiSiN multilayer coatings were deposited by a multisource cathodic arc ion deposition system with negative substrate bias voltages ranging from −20 to −180 V. [1] Here, we deposited the Ti/TiAlN multilayer coatings with various cycles on Ti–6Al–4V substrates by a home-made hybrid multisource cathodic arc system. [2]본 연구에서 AlTiN/CrTiSiN 다층 코팅은 -20~-180V 범위의 음의 기판 바이어스 전압을 갖는 다중 소스 음극 아크 이온 증착 시스템에 의해 증착되었습니다. [1] 여기에서 우리는 집에서 만든 하이브리드 다중 소스 음극 아크 시스템에 의해 Ti-6Al-4V 기판에 다양한 주기의 Ti/TiAlN 다층 코팅을 증착했습니다. [2]
Industrial Cathodic Arc 산업 음극 아크
All the studied coatings were deposited by an industrial cathodic arc PVD coater. [1] The coatings were deposited by an industrial cathodic arc physical vapour deposition process. [2]연구된 모든 코팅은 산업용 음극 아크 PVD 코팅기에 의해 증착되었습니다. [1] 코팅은 산업용 음극 아크 물리적 기상 증착 공정에 의해 증착되었습니다. [2]