Au Films(영화에서)란 무엇입니까?
Au Films 영화에서 - The growth of pure V2O5 and V2O5-Au films were performed by pulsed laser deposition (PLD) technique. [1] All the air holes in the fiber were filled with a temperature-sensitive liquid, while two cladding tubes were coated with Au films. [2] A series of Au films with different nominal deposition thickness d were fabricated on ionic liquid surfaces by thermal evaporation at room temperature, taken as surface-enhanced Raman scattering (SERS) substrates. [3] Based on the results, a mechanism for the growth of poly-Si thin films is proposed which has features (dewetting of Au films and formation of a barrier SiO2 layer) that are not characteristic of the well-known layer exchange process. [4] We explain this phenomenon in terms of a surface plasmon absorption band positioned on the top of a broader transmission band, the latter being characteristic of both homogeneous “solid” and inhomogeneous “diluted” Au films. [5] The Nd2Fe14B, Ta and Au films are prepared by a DC magnetron sputtering method. [6] N-Heterocyclic carbenes (NHCs) were functionalized with a triisopropylsilyl (TIPS)-protected alkyne group and self-assembled on Au films to enable post-deposition functionalization by C-C coupling reactions. [7] Moreover, the surrounding gaseous environment also plays a role: the coarsening of nanoporous gold [5], the initial stages of solid-state dewetting of Au films [6], and the faceting of Pt catalysts [7] are significantly influenced by surface adsorbates at elevated temperature. [8] The microstructural evolution of Au films was monitored using high-resolution transmission electron microscopy and the large strain storage capacity and plastic relaxation behavior of Au films were interpreted by comparing them with the previous computer simulations and theoretical models. [9] Here, we combined shaping and multiplexing of the laser beam to achieve ultrafast femtosecond-laser patterning of Au films with coaxial and circular hole arrays at a printing rate of 106 elements per second. [10] The growth temperature was varied from 400°C to 550°C with an interval of 50 °C during deposition of TiO2:Au films, in which the experimental results show that the grown film exhibited rutile (002) (R (002)) crystal planes for all temperature conditions. [11] Then, the Ag and Au films are coated on both sides of graphene to form the Ag/G/Ag and Au/G/Au sandwich structures, respectively. [12] Apart from that, this article also tried to answer various ethnic criticisms for Minangkabau films. [13] In this work, using the spin torque ferromagnetic resonance (ST-FMR) technique and a Mn2Au/NiFe(Py) bilayer system, we systemically study the ξDL of AFM Mn2Au films with different crystal structures. [14] We investigate the laser annealing of various Au thin films and discuss the mechanisms of grain growth accounting for the microstructure of the Au films and interaction between the Au films and the substrate. [15] A new “n-p” heterojunction type based on TiO2 (n-type) and CuMnO2 (p-type) was fabricated for the first time using three different methods for layer-by-layer deposition: (1) Au films on glass deposited by sputtering; (2) TiO2 film on Au deposited by Doctor-Blade, and (3) finally CuMnO2 film on TiO2 by spin-coating. [16] Moreover, the critical temperature of Ti/Au can be tuned by trimming the thickness of Ti and Au films. [17] Prior to device characterization, the influence of polymer thickness and gold substrate types on reflectance modulation of PEDOT-Au films is scrutinized to obtain the film with optimum quality. [18] A specific sequential (cyclic) sputtering technology for preparation of non-continuous island like Au films (nanoisland arrays) was developed. [19] Here we use ferroelastic strain from piezoelectric materials to switch the uniaxial magnetic anisotropy in antiferromagnetic Mn2Au films with an electric field of only a few kilovolts per centimetre at room temperature. [20] In the article we introduce the experiment of the photostimulation effect in the tunneling conductivity of free-standing thin C-Au films. [21] We also found that the sequence of steps leading to this transition depended critically on the thickness of the Au films. [22] Group velocities and DC electrical resistivities of W and Au films are significantly changed in x and y directions as α increases from 0 to 85°. [23] Afterwards, the thermocouples were created by deposition of the NiCrSi/Ag contact pads onto Ge–Au films. [24] The first important instances were Glass’s stage operas based on Jean Cocteau films: Orph ee, written and directed by Cocteau in 1950 and adapted by Glass in 1991; Les Enfants Terribles, directed by Jean-Pierre Melville from Cocteau’s screenplay in 1950 and adapted by Glass in 1993; and La Belle et la Bête, written and directed by Cocteau in 1946 and adapted by Glass in 1994. [25] Here, we investigate metal-dielectric nanoparticles fabricated from bilayer Si/Au films by the laser printing technique via a combination of theoretical and experimental methods. [26] Au films are widely used to secure a proper lifetime of electrical contacts. [27] The normalized transmittance of 560 °C annealed Ni/ITO and Ni/Au films was recorded 86% and 73. [28] A comparative study of the hydration layers on E–HAp, N–HAp and Au films was achieved to investigate the interfacial effect of the hydration layers on the conformation of the adsorbed fibrinogen (Fgn) and fibroblast adhesion properties. [29] Herein, we propose a new strategy to fabricate gold (Au) micro/nanostructure arrays by photocatalytic solid-state electrochemical reaction between superionic conductor RbAg4I5 and Au films. [30] The ZnO-Au films were found to be thicker than the sum of the thicknesses of the Au and ZnO produced individually by MS and PLD, indicating that the hybrid technique incremented the net deposition rate. [31] The simulation shows that the electric field intensity of the gap coupling between gold nanoparticles and Au film is 4–5 times higher than that of Au film, and the electric field intensity on the surface of gold nanoparticles is twice as strong as that on the surface of Au films. [32] Due to the isotropic characteristics of the liquid surface, the growth of Au films on silicone oil surfaces follows the two-stage growth model. [33] The possibility of selective NO순수한 V2O5 및 V2O5-Au 필름의 성장은 펄스 레이저 증착(PLD) 기술에 의해 수행되었습니다. [1] 섬유의 모든 공기 구멍은 온도에 민감한 액체로 채워져 있고 두 개의 클래딩 튜브는 Au 필름으로 코팅되어 있습니다. [2] 서로 다른 공칭 증착 두께 d를 갖는 일련의 Au 필름이 SERS(표면 강화 라만 산란) 기판으로 사용되는 실온에서 열 증발에 의해 이온성 액체 표면에 제조되었습니다. [3] 결과를 바탕으로, 잘 알려진 층 교환 공정의 특징이 아닌 특징(Au 필름의 디웨팅 및 장벽 SiO2 층의 형성)을 갖는 폴리-실리콘 박막의 성장 메커니즘을 제안한다. [4] 우리는 이 현상을 더 넓은 투과 대역의 상단에 위치한 표면 플라즈몬 흡수 대역으로 설명합니다. 후자는 균질한 "고체" 및 불균일한 "희석된" Au 필름의 특징입니다. [5] Nd2Fe14B, Ta 및 Au 필름은 DC 마그네트론 스퍼터링 방법으로 준비됩니다. [6] N-헤테로사이클릭 카르벤(NHC)은 트리이소프로필실릴(TIPS)로 보호된 알킨 그룹으로 기능화되었고 C-C 커플링 반응에 의한 증착 후 기능화를 가능하게 하기 위해 Au 필름에 자가 조립되었습니다. [7] 또한, 주변 기체 환경도 역할을 합니다. 나노다공성 금의 조대화[5], Au 필름의 고체 상태 습윤의 초기 단계[6], Pt 촉매의 패싯[7]은 표면 흡착물의 영향을 크게 받습니다. 고온에서. [8] Au 박막의 미세구조 변화는 고해상도 투과전자현미경을 사용하여 모니터링되었고 Au 박막의 큰 변형 저장 용량과 소성 이완 거동은 이전 컴퓨터 시뮬레이션 및 이론 모델과 비교하여 해석되었습니다. [9] 여기에서 레이저 빔의 성형 및 다중화를 결합하여 초당 106개 요소의 인쇄 속도로 동축 및 원형 구멍 어레이를 사용하여 Au 필름의 초고속 펨토초 레이저 패터닝을 달성했습니다. [10] TiO2:Au 박막 증착 동안 400°C에서 550°C까지 성장 온도를 50°C 간격으로 변화시켰는데, 실험 결과 성장된 박막이 루틸(002)(R(002)) 결정을 나타냄 모든 온도 조건에 대한 평면. [11] 그런 다음, Ag 및 Au 필름을 그래핀의 양면에 코팅하여 각각 Ag/G/Ag 및 Au/G/Au 샌드위치 구조를 형성합니다. [12] 그 외에도 이 글은 미낭카바우 영화에 대한 다양한 인종적 비판에 대한 답을 찾으려고 노력했다. [13] 이 연구에서 스핀 토크 강자성 공명(ST-FMR) 기술과 Mn2Au/NiFe(Py) 이중층 시스템을 사용하여 서로 다른 결정 구조를 가진 AFM Mn2Au 필름의 ξDL을 체계적으로 연구합니다. [14] 우리는 다양한 Au 박막의 레이저 어닐링을 조사하고 Au 박막의 미세 구조와 Au 박막과 기판 사이의 상호 작용을 설명하는 결정립 성장 메커니즘에 대해 논의합니다. [15] TiO2(n형) 및 CuMnO2(p형)를 기반으로 하는 새로운 "n-p" 이종접합 유형이 층별 증착을 위한 세 가지 다른 방법을 사용하여 처음으로 제작되었습니다. (1) 스퍼터링에 의해 증착된 유리 위의 Au 필름 ; (2) Doctor-Blade에 의해 증착된 Au 위의 TiO2 막, (3) 스핀 코팅에 의해 마지막으로 TiO2 위의 CuMnO2 막. [16] 또한 Ti/Au의 임계 온도는 Ti 및 Au 필름의 두께를 트리밍하여 조정할 수 있습니다. [17] 장치 특성화에 앞서 PEDOT-Au 필름의 반사율 변조에 대한 폴리머 두께 및 금 기판 유형의 영향을 조사하여 최적의 품질을 가진 필름을 얻습니다. [18] Au 필름(나노섬 어레이)과 같은 비연속적인 섬의 준비를 위한 특정 순차(순환) 스퍼터링 기술이 개발되었습니다. [19] 여기에서 우리는 압전 재료의 강탄성 변형을 사용하여 실온에서 센티미터당 몇 킬로볼트의 전기장을 갖는 반강자성 Mn2Au 필름의 단축 자기 이방성을 전환합니다. [20] 이 기사에서는 독립형 C-Au 박막의 터널링 전도도에서 광자극 효과 실험을 소개합니다. [21] 우리는 또한 이 전환으로 이어지는 단계의 순서가 Au 필름의 두께에 크게 의존한다는 것을 발견했습니다. [22] W 및 Au 필름의 그룹 속도 및 DC 전기 저항은 α가 0에서 85°로 증가함에 따라 x 및 y 방향에서 크게 변경됩니다. [23] 그 후, Ge-Au 필름에 NiCrSi/Ag 접촉 패드를 증착하여 열전쌍을 생성했습니다. [24] 첫 번째 중요한 사례는 Jean Cocteau 영화를 기반으로 한 Glass의 무대 오페라였습니다. 1950년 Cocteau의 시나리오에서 Jean-Pierre Melville이 감독하고 1993년 Glass에서 각색한 Les Enfants Terribles; 1946년 Cocteau가 각본 및 감독하고 1994년 Glass가 각색한 La Belle et la Bête. [25] 여기에서 우리는 이론 및 실험 방법의 조합을 통해 레이저 인쇄 기술에 의해 이중층 Si/Au 필름에서 제조된 금속-유전체 나노 입자를 조사합니다. [26] Au 필름은 전기 접점의 적절한 수명을 확보하기 위해 널리 사용됩니다. [27] 560°C 열처리된 Ni/ITO 및 Ni/Au 필름의 정규화된 투과율은 86% 및 73으로 기록되었습니다. [28] 흡착된 피브리노겐(Fgn)의 형태와 섬유아세포 접착 특성에 대한 수화층의 계면 효과를 조사하기 위해 E-HAp, N-HAp 및 Au 필름의 수화층에 대한 비교 연구를 수행했습니다. [29] 여기에서 우리는 초이온 전도체 RbAg4I5와 Au 필름 사이의 광촉매 고체 상태 전기화학 반응에 의해 금(Au) 마이크로/나노구조 어레이를 제조하는 새로운 전략을 제안합니다. [30] ZnO-Au 필름은 MS와 PLD에 의해 개별적으로 생성된 Au와 ZnO의 두께의 합보다 두꺼운 것으로 밝혀졌으며, 이는 하이브리드 기술이 순 증착 속도를 증가시켰음을 나타냅니다. [31] 시뮬레이션 결과, 금 나노 입자와 Au 필름 사이의 갭 결합의 전기장 강도는 Au 필름의 전기장 강도보다 4-5배 높고 금 나노 입자 표면의 전기장 강도는 표면보다 2배 더 강함을 보여줍니다. Au 영화의. [32] 액체 표면의 등방성 특성으로 인해 실리콘 오일 표면의 Au 필름 성장은 2단계 성장 모델을 따릅니다. [33] 얇은 Au/WO<inf>3</inf>:Au 필름을 기반으로 하는 센서에 의해 1ppm 농도에서 시작하는 공기 중에서 선택적인 NO<inf>2</inf> 검출 가능성은 가열이 다음 조사로 대체될 때 표시됩니다. 최대 복사 강도의 파장이 400nm인 다이오드. [34] 두께가 10nm인 Ag 및 Au 필름을 유리 및 Si 기판에 증착하고 λ=1,064nm에서 나노초 펄스 Nd:YAG 레이저의 단일 펄스를 사용하여 디웨팅했습니다. [35] 불소(F)-세그먼트 및 실리콘(Si)-세그먼트의 표면 자체 분리 특성은 WFSiPA 및 WFSiPAU 필름의 XPS 및 SEM-EDX 분석을 기반으로 해명되었습니다. 필름 단면에 걸친 분포가 명확하게 관찰되었습니다. [36]
Thin Au Films
After coating the printed microstructures with thin Au films, the 3D conductive structures offer exceptional stretchability (∼130%), conformability, and stable electrical conductivity (<5% resistance change at 100% tensile strain). [1] Growth of ultra-thin Au films on Si(1 1 1)√3 × √3-Bi surfaces was studied using low energy electron diffraction, scanning tunneling microscopy and in situ measurements of surface conductivity. [2] Nanostructures were obtained via annealing of thin Au films. [3] Wafer-scale surface activated bonding (SAB) using intermediate layers of ultra-thin Au films was performed by using glow-discharge-type atmospheric-pressure (AP) plasma with a direct plasma system. [4] We induce solid-state dewetting of thin Au films (nominal thickness of 0. [5]인쇄된 미세 구조를 Au 박막으로 코팅한 후 3D 전도성 구조는 뛰어난 신축성(~130%), 순응성 및 안정적인 전기 전도도(100% 인장 변형에서 저항 변화 <5%)를 제공합니다. [1] Si(111)√3×√3-Bi 표면에서 초박막 Au 필름의 성장은 저에너지 전자 회절, 주사 터널링 현미경 및 표면 전도도의 현장 측정을 사용하여 연구되었습니다. [2] Au 박막의 어닐링을 통해 나노구조를 얻었다. [3] 극박 Au 박막의 중간층을 사용한 웨이퍼 규모의 표면 활성 결합(SAB)은 직접 플라즈마 시스템과 함께 글로우 방전형 대기압(AP) 플라즈마를 사용하여 수행되었습니다. [4] 우리는 얇은 Au 필름(공칭 두께 0. [5]
Ultrathin Au Films
The modes of stable and reproducible deposition of ultrathin Au films (23-42 nm) and percolation structures (18-20 nm) were also demonstrated. [1] Silicon wafers with cavities and Si cap wafers were bonded by Au-Au surface activated bonding using ultrathin Au films (thickness: 15 nm) to achieve wafer-scale sealing. [2] O2 plasma for pretreatment was investigated for room-temperature wafer-scale Au–Au bonding using ultrathin Au films (<50 nm) in ambient air. [3] By optimizing the thickness of ultrathin Au films and PMA layers, we achieved maximum transmittance of 79% at 550 nm and a sheet resistance of only 22 Ω sq−1 which is comparable to the resistance of ITO substrates (20 Ω sq−1). [4] In this study, ultrathin Au films embedded between solution-processed layers of ZnMgO and phosphomolybdic acid (PMA) are investigated in the context of transparent conductive electrodes (TCEs) for optoelectronic applications. [5]초박형 Au 필름(23-42 nm) 및 침투 구조(18-20 nm)의 안정적이고 재현 가능한 증착 모드도 시연되었습니다. [1] 캐비티가 있는 실리콘 웨이퍼와 Si 캡 웨이퍼는 웨이퍼 규모의 밀봉을 달성하기 위해 초박형 Au 필름(두께: 15nm)을 사용하여 Au-Au 표면 활성화 결합에 의해 결합되었습니다. [2] 전처리를 위한 O2 플라즈마는 주변 공기에서 초박형 Au 필름(<50 nm)을 사용하여 실온 웨이퍼 규모 Au-Au 결합에 대해 조사되었습니다. [3] 초박형 Au 필름과 PMA 층의 두께를 최적화하여 550nm에서 최대 투과율 79%와 ITO 기판(20Ω sq-1)의 저항에 필적하는 22Ω sq-1의 시트 저항을 달성했습니다. [4] 이 연구에서는 ZnMgO와 인몰리브덴산(PMA)의 용액 처리된 층 사이에 내장된 초박형 Au 필름이 광전자 응용 분야를 위한 투명 전도성 전극(TCE)과 관련하여 조사되었습니다. [5]
Nm Au Films
In this work, 50 nm Au films with Ti adhesion layers ranging in thickness from 0 to 5 nm were fabricated, and their thermal stability, electrical resistivity, and plasmonic response were measured. [1] Using oxygen plasma treatment, large-area and uniformly rough polystyrene sphere (URPS) arrays in conjunction with 20 nm Au films (AuURPS) were fabricated for SERS substrates. [2]이 작업에서 두께 범위가 0~5nm인 Ti 접착층이 있는 50nm Au 필름을 제작하고 열 안정성, 전기 저항률 및 플라즈몬 응답을 측정했습니다. [1] 산소 플라즈마 처리를 사용하여 SERS 기판용으로 20nm Au 필름(AuURPS)과 함께 대면적 및 균일하게 거친 폴리스티렌 구(URPS) 어레이를 제작했습니다. [2]
Thick Au Films
We use thermal ablation threshold measurements on thick Au films in various liquids as a metric to describe thermal transport at the Au/liquid interface. [1] Sensing structures were formed on the glass slides covered 50 nm thick Au films by spin-coating method from liquid chitosan salt phase. [2]우리는 Au/액체 계면에서 열 전달을 설명하기 위한 메트릭으로 다양한 액체의 두꺼운 Au 필름에 대한 열 제거 임계값 측정을 사용합니다. [1] 감지 구조는 액체 키토산 염 상으로부터 스핀 코팅 방법에 의해 50 nm 두께의 Au 필름으로 덮인 유리 슬라이드에 형성되었습니다. [2]
Modified Au Films
Modified Au films have shown higher chemo-resistivity than the pristine ones. [1] This knowledge has been renewed by using surface enhanced infrared absorption spectroscopy (SEIRAS) to study the interaction between PEG-CuS nanoparticles and living cells attached to rGO-Au modified Au films. [2]Modified Au 필름은 원래의 필름보다 더 높은 내화학성을 보여줍니다. [1] 이 지식은 PEG-CuS 나노 입자와 rGO-Au 변형 Au 필름에 부착된 살아있는 세포 사이의 상호 작용을 연구하기 위해 표면 강화 적외선 흡수 분광법(SEIRAS)을 사용하여 갱신되었습니다. [2]
Implanted Au Films
Ag implanted Au films of different thicknesses have been studied using four probe resistance versus temperature measurements. [1] Ag implanted Au films of different thicknesses have been studied using four probe resistance versus temperature measurements. [2]서로 다른 두께의 Ag 주입 Au 필름은 4개의 프로브 저항 대 온도 측정을 사용하여 연구되었습니다. [1] 서로 다른 두께의 Ag 주입 Au 필름은 4개의 프로브 저항 대 온도 측정을 사용하여 연구되었습니다. [2]
Nanocrystalline Au Films 나노 결정질 Au 필름
The fatigue damage behavior of the nanocrystalline Au films on polyimide substrates was investigated. [1] The mean diameter ( D m e a n ), mean area of AuNS ( A m e a n ), and mean distance between centroids of nearest neighbor AuNS ( N N D c e n t r ) increased exponentially when thicker nanocrystalline Au films were annealed. [2]폴리이미드 기판에서 나노결정질 Au 필름의 피로 손상 거동을 조사했습니다. [1] 평균 직경( D m e a n ), AuNS의 평균 면적( A m e a n ), 가장 가까운 AuNS의 중심 사이의 평균 거리( N N D c e n t r )는 더 두꺼운 나노결정 Au 필름이 어닐링될 때 기하급수적으로 증가했습니다. [2]
Plain Au Films 플레인 오 영화
These spectra, which strongly deferred from those of plain Au films deposited onto unstressed glass, could not be described by simple, e. [1] These spectra, which strongly deferred from those of plain Au films deposited onto unstressed glass, could not be described by simple, e. [2]응력이 가해지지 않은 유리에 증착된 일반 Au 필름의 스펙트럼에서 크게 지연된 이러한 스펙트럼은 간단한 방법으로 설명할 수 없습니다. [1] 응력이 가해지지 않은 유리에 증착된 일반 Au 필름의 스펙트럼에서 크게 지연된 이러한 스펙트럼은 간단한 방법으로 설명할 수 없습니다. [2]
au films deposited Au 필름 기탁
Focused ion beam milling of monocrystalline Au(100) films deposited through epitaxial electroless deposition to form bowtie nano-antennas produces devices that demonstrate key performance enhancements over devices patterned identically from polycrystalline Au films deposited via physical vapor deposition. [1] These spectra, which strongly deferred from those of plain Au films deposited onto unstressed glass, could not be described by simple, e. [2] These spectra, which strongly deferred from those of plain Au films deposited onto unstressed glass, could not be described by simple, e. [3] This in situ technique has been applied to visualize the diffusion pathways in electroplated and sputtered Au films deposited directly on Cu, as well the role of Ni and NiP as barrier layers for mitigating Cu diffusion. [4] MoS2 grains were nucleated below Au films deposited on SiO2 via interface diffusion and then grown into a continuous MoS2 film. [5]보타이 나노 안테나를 형성하기 위해 에피택셜 무전해 증착을 통해 증착된 단결정 Au(100) 필름의 집중 이온 빔 밀링은 물리적 기상 증착을 통해 증착된 다결정 Au 필름에서 동일하게 패턴화된 장치보다 핵심 성능 향상을 보여주는 장치를 생성합니다. [1] 응력이 가해지지 않은 유리에 증착된 일반 Au 필름의 스펙트럼에서 크게 지연된 이러한 스펙트럼은 간단한 방법으로 설명할 수 없습니다. [2] 응력이 가해지지 않은 유리에 증착된 일반 Au 필름의 스펙트럼에서 크게 지연된 이러한 스펙트럼은 간단한 방법으로 설명할 수 없습니다. [3] 이 현장 기술은 Cu에 직접 증착된 전기도금 및 스퍼터링된 Au 필름의 확산 경로와 Cu 확산을 완화하기 위한 장벽 층으로서 Ni 및 NiP의 역할을 시각화하기 위해 적용되었습니다. [4] MoS2 입자는 계면 확산을 통해 SiO2에 증착된 Au 필름 아래에서 핵 생성된 다음 연속 MoS2 필름으로 성장했습니다. [5]