Polydimethylsiloxane Films
ポリジメチルシロキサンフィルムの紹介

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10.1021/acsami.8b17085

Here we report a low-cost approach for producing and patterning graphene films from polydimethylsiloxane films by direct laser scribing in ambient air.

ここでは、大気中での直接レーザー スクライビングにより、ポリジメチルシロキサン フィルムからグラフェン フィルムを製造およびパターニングするための低コストのアプローチを報告します。

Fabrication of Low-Cost and Highly Sensitive Graphene-Based Pressure Sensors by Direct Laser Scribing Polydimethylsiloxane.

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10.1002/adom.201901228

Herein, the use of a dielectric microsphere cavity is reported to realize over 1000-fold enhancement of the PL in CdSe/ZnS QD/polydimethylsiloxane films with a highly unidirectional emission angle of ≈9°.

ここでは、誘電体ミクロスフェア キャビティを使用すると、CdSe/ZnS QD/ポリジメチルシロキサン フィルムの PL が 1000 倍以上向上し、高度に一方向性の放射角が約 9° になることが報告されています。

Over 1000‐Fold Enhancement of the Unidirectional Photoluminescence from a Microsphere‐Cavity‐Array‐Capped QD/PDMS Composite Film for Flexible Lighting and Displays

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Polydimethylsiloxane Films ポリジメチルシロキサンフィルムの概要

Polydimethylsiloxane Films ポリジメチルシロキサンフィルム
Encyclopedia 百科事典

ポリジメチルシロキサンフィルムとは何ですか？

Polydimethylsiloxane Films ポリジメチルシロキサンフィルム - Here we report a low-cost approach for producing and patterning graphene films from polydimethylsiloxane films by direct laser scribing in ambient air. [1] Herein, the use of a dielectric microsphere cavity is reported to realize over 1000-fold enhancement of the PL in CdSe/ZnS QD/polydimethylsiloxane films with a highly unidirectional emission angle of ≈9°. [2]
ここでは、大気中での直接レーザー スクライビングにより、ポリジメチルシロキサン フィルムからグラフェン フィルムを製造およびパターニングするための低コストのアプローチを報告します。 [1] ここでは、誘電体ミクロスフェア キャビティを使用すると、CdSe/ZnS QD/ポリジメチルシロキサン フィルムの PL が 1000 倍以上向上し、高度に一方向性の放射角が約 9° になることが報告されています。 [2]